【简介】光刻技术是现代集成电路制造的根基，也是我国半导体工业亟需解决的关键技术。目前，以193 nm为曝光光源的第四代光刻系统已经发展到了极限，摩尔定律遭遇瓶颈，而13.5 nm极紫外光源的出现拯救了摩尔定律。本作品科普了极紫外光源的定义、产生极紫外光的原理及方法、目前极紫外光源所面临的主要难题以及未来的发展趋势等。本作品揭示了极紫外光源研究的必要性与可行性，诣在启发中华儿女为我国的半导体行业添砖加瓦，突破光刻技术壁垒。

【作者】武耀星