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微纳制造工艺平台举行超净间行为规范及安全守则培训

来源:武汉光电国家研究中心   作者:  发布时间:2011年12月23日  点击量:

2011年12月9日下午3:30,在光电国家实验室A301会议室微纳制造工艺平台举办超净间行为规范及安全守则培训。
为规范光电子微纳制造工艺平台管理,加强实验室师生在平台安全工作的意识,对工艺事故做到防范于未然,“ 光电子微纳制造工艺平台行为规范及安全守则”召开了此次培训会,此次会议由平台书记黄鹰教授主持。
黄鹰教授首先专门作了安全问题报告,就在平台开展工艺的安全问题,如防火、防射线、防强磁场、防毒气及防止窒息对大家进行了全面的讲解,黄教授的讲解深入浅出,不时迎来大家阵阵的掌声。
平台主任夏金松教授就超净间行为规范对大家进行了培训。主要谈了如何穿着使用超净服、如何保持超净环境,怎么动手取样。特别指出了同学在超净间日常工作中出现的一些不良行为。希望大家以后做得好。
培训完毕后,夏金松教授还为大家介绍了平台电子束曝光机的基本使用功能、调试状况,以及对大家开放使用办法等。
据统计,此次参会师生共计300余人,大家普遍认为参加此次培训会受益匪浅,达到了预期的效果。
(责任编辑:詹健)