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武汉光电论坛第212期:高分辨DUV和EUV光刻胶研发

来源:   作者:  发布时间:2024年05月15日  点击量:

报告题目:高分辨DUV和EUV光刻胶研发

时间:2024年5月17日15:00-16:30

报告人:杨国强 教授,中国科学院大学

邀请人:朱明强 教授,华中科技大学

地点:华中科技大学新光电信息大楼C117

报告人简介:

杨国强教授,现任中国科学院大学教授,中国科学院化学所二级研究员。1985年北京大学获得学士学位,1991年中国科学院感光化学研究所获得博士学位。中国化学会理事、光化学专业委员会副主任、高压化学专业委员会主任、中国感光学会光刻材料与技术专业委员会主任、中国光学学会光刻技术专业委员会副主任。曾任中国科学院光化学重点实验室主任、分子反应动力学重点实验室主任、中国科学院化学所副所长、中国化学会秘书长,第九届全国科协委员、亚洲太洋州光化学理事会副理事长、中国科学院大学副校长(2024年到龄离任)。在光功能化合物和功能材料的分子设计、材料合成、性能及其作用机理方面开展研究工作。在我国首先开展了基于分子玻璃单分子树脂的超高分辨光刻胶研究,研发出了用于极紫外(EUV)和 ArF 光刻(193nm)的超高分辨光刻材料,正在进一步开展产业化应用研发。

报告摘要:

报告人是国内最早开展极紫外光刻胶研究的课题组,在分子玻璃光刻胶等领域的研究填补国内研究空白,跻身国际先进水平。本报告将对光刻胶,特别是深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻胶的原理、研发技术路线和应用进行系统的总结,对光刻胶的研发历史、我国在深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻胶等高分辨光刻胶的研发进展、光刻材料的产业化工作进行介绍。