5月30日，受光电国家研究中心付玲教授邀请，美国戴顿大学光电系系主任Partha Banerjee教授做客武汉光电论坛第158期。在题为《从二维至三维互相关：光学方法与性能评估》的报告中，他阐述了从二维光学互相关至全息图互相关的发展。

首先，Banerjee教授诙谐、幽默地介绍了他的研究团队中各位研究人员与他的合作伙伴。然后，介绍了自2015年来的与光电国家研究中心、工程科学学院的合作与联系，以及戴顿大学与华科工程科学学院光电学院联合培养硕士生等。

在报告中，Banerjee教授通过一系列的品质参数（差别比DR，峰-相关能量平面PCE，峰-噪声比PNR等），对比了传统的光学相关器与基于光致折射材料的光学相关器。他指出，基于光致折射材料的相关器具有实时性、适应性，可提高目标被检测到的概率，降低出错率等优点。他阐述了基于光致折射材料的光学相关器在飞行器、指纹识别中的应用，并分析了相应的品质参数。

接着，他从指纹的应用举例引出了多波长数字全息技术对指纹进行三维重建的工作。他说，指纹的研究已有百余年，但是绝大部分的研究均处于对指纹的二维形貌分析。他指明，实际生活中的指纹并不是二维的，而是以三维的形式存在。他的团队与宾州州立大学合作实现了硬物表面的指纹提取与三维重建，还原了指纹三级孔隙细节。他指出，三维指纹形貌存储了比二维图像更丰富的信息，在未来有着更远大的应用前景。

在报告中，Banerjee教授以多波长全息技术为引阐述了全息图的定义。全息图记录了参考光与物体光的干涉图样，但在图像中还隐含了光束的相位信息，因而通过全息图的二维互相关可以提取出三维物体的表面特征。同样地，品质参数也可用于全息图的互相关的分析。最后，他介绍了全息图互相关在三维金属制造过程中产品监测的应用前景。

　 　Partha Banerjee教授是美国光学学会（OSA）会士，国际光学工程学会（SPIE）会士，物理学会（FInstP）会士，电气与电子工程师协会（IEEE）高级会员。他的研究兴趣涉及数字与动态全息成像，光致折射材料，光学超材料，非线性光学，以及光学捕捉。已出版5本专著，已发表超过135篇学术论文，超过150篇/场会议论文/报告。

华中科技大学武汉光电国家研究中心付玲教授主持本期论坛，并为Partha Banerjee教授颁发了“武汉光电论坛”纪念盘。来自光电国家研究中心、光电学院、工程科学学院等多个院系的师生参加了此次报告并踊跃交流。

（责任编辑：胡晓莺）