2014年3月19日上午，美国南加州大学吴蔚副教授受邀在A101会议室，作了主题为“ Nanoimprint Lithography and Application in Nano-electronics, Nano-photonics and Chemical sensing”的学术报告。学术报告会由光电子器件与集成功能实验室主任张新亮教授主持，武汉光电国家实验室总支书记林林博士、武汉光电国家实验室副主任谢长生教授、曾绍群教授应邀也参加了此次学术活动。

吴教授从纳米压印的原理出发，介绍了纳米压印技术在微电子和光子学领域的应用，展示了采用纳米压印技术实现的纳电子器件、光学波段的超材料与纳米生物传感设备。生动风趣的讲演形式吸引了众多师生，内容新颖的科技前沿使得师生受益匪浅。

报告结束后，林林陪同吴教授参观了武汉光电国家实验室展厅，并向吴教授介绍了近年来实验室的各项研究成果和实验室平台的建设情况。在微纳制造工艺平台，吴教授在平台主任夏金松教授陪同下进行了参观，并在电镜中心与能源光子学功能实验室主任周军教授进行了交流。

当天下午在A201会议室，吴教授还与光电子器件与集成功能实验室的老师们展开了一场“ 自由式讨论”，双方在纳米光刻工艺技术、纳米光子学器件以及进一步的合作交流等方面进行了探讨。