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武汉光电国家实验室(筹)二项成果获 “2008中国光学重要成果”奖

来源:武汉光电国家研究中心   作者:  发布时间:2009年03月27日  点击量:

2009年3月17日,由中科院上海光机所和德国慕尼黑国际博览集团联合主办、光学期刊联合编辑部承办的光学前沿-2009’激光技术论坛暨“2008中国光学重要成果”发布会在上海新国际展览中心召开。华中科技大学副校长、武汉光电国家实验室(筹)常务副主任骆清铭教授出席会议并领奖。

范滇元院士在致辞中讲到,随着中国科研水平的不断提高,中国光学领域科研人员在国际著名期刊发表的具有重要学术、应用价值的论文越来越多,得到了国内外同行的肯定和好评。但这些论文大多数没有用中文发表,为了让更多的读者及时了解中国光学领域科研人员的最新研究成果,扩大这些成果在国内的影响,《激光与光电子学进展》从2005年起开设专题栏目-“年度中国光学”,介绍当年中国光学领域研究人员在国际著名期刊发表研究成果。四年来,该栏目得到了国内众多光学专家与企业界的鼎力支持。今年该栏目共收到稿件50多篇,经专家评审,共有29篇优秀成果入选,这些成果在一定程度上代表了中国光学研究的最新成果和研究水平。

庄松林院士在论坛上宣布了获奖名单。本次2008年度“中国光学重要成果”包括全国光学领域29个课题组在2008年发表在国外知名期刊上的研究成果,其中武汉光电国家实验室(筹)今年有二项研究成果入选,分别是:邓勇、骆清铭的“高散射介质后向散射模式的三级近似》,王健、孙琪真、孙军强的“周期极化反转铌酸锂光波导的新特性和新应用”。
2009年3月17日,由中科院上海光机所和德国慕尼黑国际博览集团联合主办、光学期刊联合编辑部承办的光学前沿-2009’激光技术论坛暨“2008中国光学重要成果”发布会在上海新国际展览中心召开。华中科技大学副校长、武汉光电国家实验室(筹)常务副主任骆清铭教授出席会议并领奖。

(责任编辑:肖晓春)